快照光谱成像芯片:亚埃米级分辨率的实现路径
摘要
快照光谱成像芯片作为高维光学信息采集和处理领域的前沿技术,近年来因其小型化、高集成度和一次曝光即可获取空间与光谱完整数据,受到生物医学、材料科学、智能感知等众多领域的高度关注。随着对空间和光谱分辨率极限的持续追求,芯片技术突破了传统扫描式仪器的体积、成本与实时性瓶颈,推动了亚埃米级分辨率的探索,极大扩展了应用场景和技术边界。本综述系统梳理了快照光谱成像芯片的主流实现路径、分辨率提升机制、材料与微纳结构创新、智能重构算法协同、以及集成化设计与跨界应用等关键进展,深入剖析了分辨率权衡、制造工艺、算法适配、系统容差等存在的技术挑战。综合评价显示,纳米与亚埃米级分辨率不仅是光谱成像芯片技术演进的物理必然,也是生命科学、量子信息、纳米检测等前沿应用的核心需求。未来,跨学科协同创新、低成本微纳制造、算法硬件一体化与标准体系完善,将成为推动高分辨率快照光谱成像芯片广泛落地和持续突破的关键路径。本综述为相关领域研究者和工程师提供了系统的理论基础与技术展望,助力芯片级光谱成像向更高分辨率、更广应用和更深智能化发展。
1. 引言:快照光谱成像芯片的技术背景、发展趋势与分辨率挑战
快照光谱成像芯片作为高维度光学信息采集与处理技术的前沿方向,近年来取得了显著发展。该技术突破了传统光谱成像仪器在尺寸、成本及信号获取速率等方面的局限,在高空间分辨率和高光谱分辨率协同下,能够实现对物质本征属性的精确揭示。快照光谱成像技术通过一次曝光即可获取物体的完整空间与光谱信息,为动态场景分析、资源有限平台上的集成应用以及高通量检测提供了可能。传统扫描式或多帧光谱摄像系统不仅结构复杂,且存在实时性和数据获取时空对齐的瓶颈,无法满足新兴应用如生命科学原位观察、工业自动化、智能感知、遥感与天文探索等对小型化和快速高分辨率成像的需求,,。进入芯片化快照光谱成像阶段,依托CMOS兼容工艺、超材料与光子晶体、编码孔径、纳米结构滤波器等多样化光学设计,相关器件不仅极大降低了体积与重量,还深化了空间及光谱分辨率提升,实现了可批量制造及平台无缝适配,,。
分辨率一直是快照光谱成像芯片领域关注的核心问题,也是推动该技术突破的关键因素。空间分辨率决定了成像系统对细节结构的识别能力,而光谱分辨率则影响对物质成分和状态的精准鉴别,对亚埃米(sub-Å)级及更高分辨率的追求直接关乎应用领域的技术壁垒与创新空间。不同应用场景对于分辨率有不同的侧重点;例如,在生物医学快速三维代谢成像中,高空间和高光谱分辨率的结合有助于区分细胞类型和器官亚结构;在农业智能检测、工业自动化、天文遥感等领域,则对面积覆盖、组分定量分析和低光效率下的信息保持提出更高要求,。
当前技术方案虽已实现亚微米乃至纳米尺度的空间分辨率,以及十皮米级的光谱解析能力,但仍然面临一系列挑战,包括信噪比提升、通用算法开发、片上集成度持续增强,以及在极小器件尺度下光学调控能力的突破,。
本综述后续将重点围绕快照光谱成像芯片的空间与光谱分辨率提升路径、典型应用构型、芯片工艺及后端智能重建算法等开展系统梳理与评析。各章节将分别探讨核心构件、前沿方案及未来发展趋势,以推动亚埃米级分辨率芯片在多领域实际场景的落地,并展望其在高通量、智能感知、生物拟态等交叉方向的新突破与转型潜力。
2. 技术现状与分辨率瓶颈
快照光谱成像芯片作为新一代高通量多维信息传感平台,在成像速度、系统集成度及信息获取丰富性等方面展现出显著优势。自其问世以来,多种实现路径相继发展,包括基于编码孔径、微纳薄膜滤光阵列(如MSFA)、光子晶体与随机结构、超表面(metasurface)、微透镜阵列、光波导及新型三维结构打印等多元方案。这些技术路线不仅推动了芯片结构和光学功能的不断创新,还因应了实际场景对更高空间与光谱分辨率、微型化和低成本的持续需求。在具体实现上,系统的分辨率表现既受光学前端结构的物理特性所限,也依赖后端计算重建与算法优化。例如,基于高阶Fabry-Perot谐振腔、多层超薄金属膜的MSFA,有效扩展了工作带宽并获得纳米级滤波与高色纯度,同时兼容主流CMOS工艺,展现出优异的小型化和可批量制造能力。而编码孔径、光波导及光子晶体、3D打印光导阵列等创新结构,也在提升空间采样密度、增强系统光效及材料适应性方面带来变革。
尽管芯片技术取得突破,空间和光谱分辨率间固有的权衡始终是制约芯片性能极限的核心瓶颈:像元微缩与高密度滤光器件虽可提升空间分辨率,但易带来透过率降低与谱带展开等负面影响,衍射、耦合和系统噪声等物理因素亦使得光谱重建边界受限。在实际应用中,如生物成像对细胞亚结构分辨、材料科学中的微区检测、量子信息中发射体精耦合等领域,对分辨率的极致追求已成为推动快照光谱芯片技术进一步演进的核心动力。因此,系统梳理各主流方案的实现机制、物理权衡及技术瓶颈,对后续亚埃米级分辨率突破及跨领域融合应用具有基础性指导价值。
2.1 主流实现路径与分辨率影响
快照光谱成像芯片作为高效获取空间及光谱信息的重要技术,其实现路径直接决定了成像系统的空间分辨率与光谱分辨率等核心性能。主流实现途径可以分为基于光谱调制的前端结构与后端计算重建算法协同优化。当前主流器件方案包括编码孔径、薄膜/微纳滤光结构(如多光谱滤光片阵列、MSFA)、微透镜与光波导、超表面与光子晶体等。
编码孔径类方法,如CASSI(Coded Aperture Snapshot Spectral Imaging),依赖特殊的空间-光谱编码元件与联合重建算法,可在单帧下实现高光谱信息获取,但其空间分辨率受制于编码掩模及探测器像元数量,传统反射式结构下光效较低。近期有文献通过空间增强反射型编码孔径结合深度学习提升了空间分辨率和光效,为成像系统带来显著改进。
微纳滤光片阵列(MSFA)和集成薄膜型滤波器,则进一步贴合主流CMOS制造工艺,直接在像元上沉积多层干涉滤光结构,例如高阶Fabry-Perot腔、金属-绝缘体-金属微腔等。此类结构天生便于大规模集成和下尺度,可实现纳米级阵列排布,但也会受限于衍射和耦合效应导致在极小像元尺寸下透过率下降与带宽展宽,必须在空间和光谱分辨率间权衡选择,,。最新研究利用单步灰度曝光等创新工艺,使Fabry-Perot型滤波阵列在制造复杂性和可定制性、通用性上获得突破。
光子晶体与类随机结构型光谱编码芯片通过调控亚波长尺度的光学共振,为探测阵列赋予独特的、可设计的光谱响应,实现高密度、低成本一体化仿生传感模组。这类芯片在兼容CMOS工艺、低功耗、空间光谱分辨率权衡等方面表现突出,可用于单帧快速成像和可穿戴、消费级应用,。
超表面(Metasurface)元件依赖亚波长尺度的强色散与波前调控能力,可以极大压缩系统体积,实现不同波长分量的精准调控与高稀疏度编码。近期出现的端到端优化框架,结合神经网络反向协同设计前端光学结构与后端解码网络,有效提升了成像品质及灵活性,为快照光谱成像芯片的小型化、高性能、高自适应性开辟全新路径,,。
光波导、光纤束与3D打印结构等新颖思路也为提升输入空间采样密度、输出通道灵活配置提供了可能,如曲面3D打印光导阵列及高密度分布式输入结构,能明显提升空间采样密度,简化系统结构并降低成本,。
此外,腔增强结构、动态相位编码(如液晶空间光调制)、分布式散斑光子芯片等方案,也为进一步压缩器件尺寸、实现场景自适应、高光谱分辨能力提供技术基础。例如单层MoS2应变可调谐结构、动态DOE等,可以在亚微米甚至原子级厚度下实现高达纳米级光谱分辨,满足片上集成、可穿戴、实时成像等高度微型化应用场景的需求,,。
需要指出的是,各种主流实现路径在空间分辨率和光谱分辨率提升中普遍面临“二者难以兼得”的物理限制。例如薄膜滤光器件像元缩小虽带来更高空间密度,但也不可避免导致单像素内谱带变宽与透过损失。同理,空间编码光学和超表面编码虽然支持复杂的光谱映射和多通道压缩采样,但重建过程的计算复杂性与实验系统误差亦对实际可达分辨率形成约束。这些现实限制和取舍直接关乎后续对快照光谱成像芯片分辨率极限、系统应用需求及新材料、新结构的创新突破评估。
2.2 分辨率瓶颈的应用影响与挑战
快照光谱成像芯片的发展极大促进了各领域对高维信息的获取,但其空间和光谱分辨率瓶颈对实际应用产生了显著影响。在生物医学成像方面,分辨率直接决定了对细胞器、亚细胞结构乃至生物分子的可识别能力。以超高速嵌相快照光谱显微技术为例,该方法克服了传统空间或光谱扫描慢速的限制,实现了对活体三维组织的高效高分辨率成像,对于揭示复杂生物系统中不同细胞类型与亚细胞器的微弱光谱差异具有重要意义。然而,现有技术在提升空间或光谱分辨率时常面临权衡,难以兼顾细粒度结构的可视化和多通道信息的精确分离,限制了生物医学研究中对结构与功能耦合的精细解析能力 。
在材料科学检测领域,光谱分辨率瓶颈同样制约了高效、精准的材料分类与评估。利用紧凑型CTIS系统进行材料表征和分类时,光谱细节的缺失会导致不同材料的边界识别模糊,影响其在复杂多相样品中的准确分割。新近提出的谱重建与分割算法在一定程度上提升了分辨率,但受成像芯片本身物理限制影响,仍难以满足纳米尺度材料反应动力学的实时监测需求 ,。
在量子信息领域,快照光谱成像芯片的分辨率瓶颈更成为限制器件可扩展性与高通量制造的关键因素。集成固态量子发射体与光子纳米结构时,单个量子点与光学模式的准确耦合高度依赖器件对空间与光谱的极致分辨。若不能有效提取和区分微小位置与发射波长,难以实现大规模集成量子光子电路的高效制造,也难以推动量子信息传感和量子网络的功能升级 。
此外,在智能驾驶与远程感知等领域,高分辨率快照光谱成像有助于复杂交通场景下各类物体的精准分割与识别。例如,利用近红外快照光谱结合深度卷积神经网络的图像分割,能够提升在雨雪等复杂环境下物体材料的区别度,有助于提高驾驶安全性和自动识别能力。然而,空间及光谱分辨率限制常导致光谱特征混杂或细节丢失,制约了算法的判别能力 。
回顾当前快照光谱成像芯片的应用前沿可见,高分辨率不仅仅是优化视觉体验,更关乎各领域对本质信息的深度挖掘与新功能的实现。分辨率突破将直接催生亚纳米尺度检测、生物组织精细分型、材料微区动态反应捕捉及大规模量子芯片集成等新型应用。因此,后续亚埃米级分辨率的探索与实现,是推动跨学科应用创新的事实与技术基础。
3. 亚埃米级分辨率对快照光谱成像芯片发展的必要性
随着快照光谱成像芯片技术不断向小型化、高集成度和功能多维化演进,亚埃米级分辨率正成为推动该领域突破的重要瓶颈和发展必然。首先,从物理极限角度分析,传统光学分辨率受限于瑞利和阿贝定律,然而纳米与亚埃米级结构通过光子晶体等新型材料和三维微纳加工方式,已展现出对光场的强耦合与灵活调控能力,有效提升了空间与光谱分辨率,并为芯片级集成提供了坚实基础 。此外,在二维材料和异质集成领域,原子级掺杂与应变工程等手段显著扩展了器件带宽,增强了光谱响应,实现超小尺寸下的高分辨率 。其次,随着生物医学、量子信息与前沿纳米技术等应用需求持续提升,亚埃米分辨率能直接实现对活体微观结构、单量子发射体和纳米反应的即时、定量观测,突破传统快照光谱成像在空间、时间与光谱分辨之间的权衡,满足实时、高通量与高精度测量的科学诉求 ,。系统集成方面,高分辨率硬件与自适应算法的协同优化,有效释放了器件的物理潜能,在微型化同时保证了高信噪比和重建精度,推动了快照光谱成像向多维数据实时采集的方向迈进 ,。综合来看,亚埃米级分辨率不仅是光谱成像芯片技术演化的物理必然,也是纳米科技、量子器件和生物诊断等前沿应用持续提出的新需求,其实现依赖于材料科学、集成工艺和智能算法的协同创新,但也面临器件制备难度、光学性能权衡以及算法高效性的挑战。未来,跨尺度材料设计、片上智能重构和多物理融合将成为突破分辨率极限的关键技术路径。
3.1 物理与材料极限:纳米/亚埃米结构对分辨率的推动
随着光谱成像芯片向小型化和高分辨率持续发展,物理与材料结构的极限已成为提升分辨率的关键。纳米和亚埃米级结构的引入不仅突破了传统瑞利、阿贝等光学分辨率定律,更充分展现了材料与结构创新带来的本质跃迁。首先,光子晶体结构通过复杂的光学干涉作用,能够在芯片微型像元处实现高度丰富的光谱响应特性,这不仅使得单次拍摄的芯片光谱仪具备低成本和高集成度,同时实现了空间与光谱分辨率的双重提升 。类似地,亚微米尺度的三维打印光纤阵列,凭借2-光子聚合技术在几纳米粗糙度下制造小芯径纤维,实现了极高空间密度的输入结构与定制化输出,为快照型成像光谱仪奠定了微纳尺度器件基础 。
在微型光谱成像系统中,纳米材料与二维材料正发挥日益重要的作用。面向超宽带和高色纯度的多光谱滤光阵列,研究将亚波长结构与超薄金属层结合,通过高阶法布里-珀罗共振,显著扩展了工作波段和分辨率。这种原子级调控不仅能够将滤光器尺寸缩小至1微米,极大地契合当代CMOS像元,而且实现了平均透过率达到60%以上的高色纯度光谱分选 。更进一步,通过单步灰度曝光工艺,薄膜金属-绝缘体-金属腔体的法布里-珀罗共振结构可以在晶元级直接形成多波段滤光阵列,提升了定制化能力以及制造效率,同时保持了高透过率和窄带宽特性,在微型化的同时兼备光谱性能 。
微型化推动对像元集成薄膜滤光器的极限优化,但也带来了透过率下降与带宽变宽的固有限制。这种权衡根源于衍射效应与有限反射次数,必须通过新颖结构设计与材料选择来克服,从而在尺寸压缩的同时保证高光学性能 。
继承纳米结构中对光场调制的高度控制,拓扑优化的等离激元超表面实现了角度无关的光谱滤波,推动了成像芯片在宽视场、不同入射角度下依然保持高光谱恢复能力 。
除传统有序结构外,非规则的随机纳米光子结构同样展现出提升光谱分辨率的潜力。利用多重散射增强光程,随机结构在极小封装体积(如25×50微米)内实现了0.75纳米的超高光谱分辨力。半导体纳米制造的高度精确性进一步降低了损耗并保证了可靠性,为实验室芯片级光谱仪奠定了基础 。
二维材料如单层MoS2,其电子-机械耦合与应变可控光电特性带来了别具一格的分辨率调控方案。通过应变工程,器件仅需原子厚度活性层即可实现9纳米分辨率和大幅体积缩减,同时保持优异的响应速度与光谱恢复精度。该架构模糊了原子级调控与宏观功能边界,为集成化光谱诊断平台和可穿戴传感器开辟了新方向 。
上述成果显示,纳米/亚埃米结构与材料工程正不断推动光谱成像芯片分辨率向物理极限逼近,并且对器件集成度、定制化光学功能以及制造工艺提出了更高要求与挑战。分辨率突破的过程依赖于对材料基础、结构调控及有效光场管理的精细掌控,从而为未来的超高速、高精度、多功能光谱成像芯片奠定坚实的物理与材料基础。
3.2 前沿应用对极高分辨率的需求驱动
极高空间和光谱分辨率的快照光谱成像芯片技术,近年来成为众多前沿科学与工程应用领域的基础驱动力。其中,生物医学、量子信息与纳米光子学等领域对亚埃米级到纳米级分辨率的迫切需求,极大地推动了快照光谱成像技术的演进。首先,在生物医学领域,三维活体组织、器官甚至亚细胞结构的代谢与动态过程探测对成像速度与空间分辨率都提出了极高要求。传统基于扫描的方法由于速度和光照剂量的限制,难以同时获得时空与光谱上的高分辨数据。基于快照光谱成像芯片的创新微结构和智能重构算法,使得单帧捕获下高维数据重建成为可能。例如,有学者提出了基于光片和正弦/余弦干涉滤波的快照光谱显微方法,其成像速度提升10-100倍,能够在极低光剂量条件下实现活体三维组织的亚细胞级光谱成像,实现了不同细胞类型和细胞器在复杂生理环境中的高效、实时分辨和追踪 。
其次,在量子信息与纳米光子学领域,固态量子发射体与集成微纳光子结构的耦合与调控一直受限于对其光谱及空间参数的精准测量。常规技术难以实现对单量子点等纳米尺度对象的全局高通量、高分辨分析。快照光谱成像技术为此提供了变革性的解决思路。例如,将超分辨快照光谱成像方法首次引入量子光学,可以在宽视场下同时实现单颗量子点空间位置和发射光谱的精准提取,通过器件设计上的集成,可推动高性能量子光源与量子电路的可批量、可调控制造 。此外,采用基于量子关联光子的快照成像方法,可在有限像元条件下最大化同时获得高空间与高光谱分辨能力,极大提升资源效率,对于量子探测和量子成像具有独特价值 。
在纳米材料和分子原位研究中,亚波长级、甚至亚埃米级空间分辨驱动下的高光谱成像能直观揭示微纳尺度反应与结构演变动态。例如,结合快照技术与增强拉曼成像所开发的时空分辨技术,实现了纳米颗粒反应动力学的高通量、精细观测,对研究表面等离激元增强反应和分子动力学机制至关重要 。
值得注意的是,推动极高分辨率的同时,系统复杂度、数据获取效率与实时性也成为实际应用突破的瓶颈。多项创新如片上光学调制、多材料集成和智能重构算法,有效提升了成像分辨率、光通量和帧率。例如,最新片上宽带高分辨率光谱成像芯片不仅覆盖400-1700纳米波段,像素规模提升到百万级,并实现了每秒百帧的高帧率,已广泛应用于人类健康、智能农业、工业自动化等多领域实时监测与分析 。
综上,生物医学复杂体系、量子信息和纳米光子芯片集成制造、纳米尺度动力学分析等领域对极高分辨率成像需求的不断升级,反过来驱动了快照光谱成像芯片技术向更高空间、光谱和时间分辨率的方向突破,为实现更多前沿功能和新型科学研究范式提供了坚实的硬件基础与理论支撑。
3.3 系统集成与高分辨率算法协同
高分辨率快照光谱成像芯片的系统集成,离不开高效重建算法的协同支持。随着硬件技术不断进步,芯片在空间和光谱分辨率上已取得显著突破,但由于系统自身的压缩采样机理,原始数据的二维投影无法直接恢复出包含丰富空间-光谱细节的三维数据立方体。因此,迫切需要与硬件特性高度适配的重建算法,帮助系统释放其真正的能力边界。
当前,深度展开(Deep Unfolding)、张量优化、变换器(Transformer)等先进算法方法,已经成为推动高分辨率成像的关键力量。深度展开方法通过将传统的数值优化过程映射为神经网络结构,能够显著提升快照成像系统在复杂逆问题条件下的重建质量与稳定性。例如,有学者专为衍射型快照光谱成像(DSSI)提出了基于深度展开的高效重建框架,其通过推导数据一致性项的解析解,并采用神经网络初始化,既保证了收敛效率也提升了成像效果,并在实验中表现出比同类方法更优的性能,充分表明只有兼容成像物理过程的算法能够充分挖掘硬件潜力 。
Transformer结构因其卓越的全局依赖建模能力,在光谱成像重建任务中也显示出巨大优势。针对光谱与空间维度高度相关、交互复杂的特点,研究者提出了光谱维多头自注意力等机制来精准建模谱间特性,同时引入光学掩膜的先验,引导变换器模型关注高保真信息区域,实现优质的空间-光谱细节重现并显著降低计算复杂度 。此外,利用基于大规模预训练模型的Transformer骨干,以及空间-光谱自适应融合机制,也显著提升了快照光谱目标检测与跟踪等复杂任务的性能,且具有较高的数据适应性与迁移能力 。
张量优化及稀疏约束作为经典的高维数据建模方法,在光谱成像重建中同样发挥着至关重要的作用。例如,基于高阶张量的优化模型,被证实能提升空间-光谱相关信息的提取,增强了重建图像的结构保真度,有效防止信息混叠和失真 。而将深度神经网络与分阶段、多尺度信息交互、可学习物理掩膜等机制结合,实现重建过程的可解释性和硬件友好性,进一步提升了系统的整体验收能力 。
值得强调的是,系统集成与算法协同不仅体现在硬件和算法的简单拼接,更依赖于对成像物理过程的准确建模和联合优化。部分方法通过端到端的学习,在数据库稀缺、小样本情况下,通过物理建模辅助的优化网络实现高保真、快速、泛化能力强的重建 。而以密集空间-光谱注意力机制为特征的Transformer与深度展开联用,则可在提升重建上限、减少训练时间的同时,极大缓解真实场景中伪影与失真问题 。
总体来看,实现亚埃米级分辨率的快照成像,既依赖硬件高分辨率与高信噪比传感单元的持续进步,更需要与之深度适配、紧密协作的先进重建算法,实现系统-算法一体化的联合设计。未来,朝着光学-电子-智能算法深度融合方向的系统集成,将是全面突破成像上限的关键。
4. 实现亚埃米级分辨率的技术路径与挑战
亚埃米级分辨率的快照光谱成像芯片正处于学术与产业的前沿,其技术路径涵盖了微纳光学、材料创新、深度学习辅助重建、集成化芯片设计以及跨界新型结构等多个层面。实现此极限分辨率不仅要求在光学元件制备与集成方面不断突破如亚波长元表面、微纳结构与三维打印光波导等关键技术,还需解决滤光片微型化与带宽之间的内在权衡、器件制造一致性及系统装配复杂性等实际瓶颈。同时,深度学习和优化算法的引入,实现了与硬件协同的高效数据重建,进一步推动了系统光谱还原质量、实时性与智能化水平的提升。此类算法不仅针对快照体系的物理编码特性提出定制化结构,还有效嵌入传感器先验、误差容忍和多维正则,为突破传统压缩测量重建病态问题和硬件限制提供了理论与工程支撑。
此外,推进芯片集成的大规模微纳薄膜设计、可重构光学网络与动态衍射结构等新方法,显著改善了制备误差敏感性与实用性,推动了片上成像系统的miniatur化、低功耗和实时高保真应用,。在材料创新领域,新型二维材料、金属-绝缘-金属微腔等结构突破了带宽、效率和色纯度的多重限制,为下一代集成快照芯片提供了可扩展设计空间。
尽管进展显著,实现高分辨率与高集成度芯片仍面临诸多挑战:包括微纳工艺极限、衍射损耗控制、结构鲁棒性、算法计算负担及数据高效利用等。
| 技术路径 | 核心驱动 | 主要挑战 |
|---|---|---|
| 微纳光学结构 | 亚波长调控、元表面 | 制造工艺极限、衍射损耗 |
| 材料创新(二维/纳米) | 带宽扩展、高色纯度 | 稳定性、CMOS兼容性 |
| 深度学习重建算法 | 高效数据恢复、智能化 | 算法实时性、硬件适配性 |
| 集成化芯片设计 | 高集成度、容差优化 | 系统结构复杂、制造误差 |
| 跨界创新方案 | 多功能一体化、可重构 | 工艺可靠性、成本与扩展性 |
未来,相关研究亟需进一步整合多物理场设计、软硬件协同优化和新材料/新结构发掘,并关注制造工艺的可扩展性与系统级误差补偿机制,推动快照光谱成像芯片在科学探索与实际场景中的深度应用突破。
4.1 微纳光学与材料创新
随着快照光谱成像芯片的发展,微纳光学结构与材料创新日益成为突破空间、光谱分辨率瓶颈的关键路径。本章针对元表面、微纳结构、3D打印光波导、纳米薄膜及二维材料等前沿技术,阐述其在实现亚埃米级分辨率、提升器件集成度和成像性能方面的理论优势与现实挑战。
元表面作为高度可定制的微纳光学平台,以亚波长结构实现对光场多维度控制,其强色散特性和可设计相位分布为光谱分离与编码提供了新可能。例如,通过联合优化元表面与后端恢复网络的方法,能显著提高高光谱重建质量,推动器件的微型化和可集成性。多波段、多功能元表面集成方案也在不断突破制造工艺的复杂性限制,例如采用深度学习辅助,实现系统级的小数据训练与高精度成像,提升了实际应用的灵活性与低成本优势。此外,基于拓扑优化的纳米结构设计提升了器件对入射角的鲁棒性,扩展了光谱成像芯片的应用边界。
3D打印技术,尤其是两光子聚合工艺,为实现高度定制化的光波导阵列提供了全新平台。采用该方法可直接制备亚微米分辨率且表面粗糙度极低的光纤阵列,简化了传统复杂的人工组装流程,有效提升空间密度和系统集成度。例如,通过3D打印曲面光导阵列,能以更高空间分辨率采样成像,同时在输出端实现高光谱分辨的像元重分布,极大降低系统复杂度与成本,拓展了原型系统在UV到红外的应用领域,。
纳米薄膜与二维材料体系在快照光谱芯片上的应用亦日益突出。像素集成的薄膜滤光片技术实现了高效的波段选择,但小尺寸化时因衍射和反射数减少带来了透过率与带宽间的权衡,成为实际系统设计时需重点考量的技术瓶颈。基于Fabry-Perot谐振腔原理的多谱段滤光阵列,通过亚波长结构及超薄金属层调控高阶谐振,不仅扩大了工作带宽,还兼顾了高色纯度及高透射效率,其与CMOS兼容性使其有望实现极小尺寸级别的器件集成,促进快照成像系统的小型化发展、。
二维材料在微型光谱芯片领域表现出独特潜力。例如,利用应力可调单层MoS$_2$,能在原子级厚度下通过谐振频率调控实现高灵敏的可调光谱解析,达到亚10 nm分辨率。此类架构依托强机电耦合效应及高性能算法,可在微型芯片上完成可编程光谱检测与信息恢复,大幅度缩减体积并提升解析速度,为植入式与便携式应用提供了材料创新与工艺协同的经典范例。
在多维度参数协同优化中,微腔-金属透镜集成等新型三维结构,引入额外的偏振选择和色散调制手段,为多维多功能集成平台提供遵循可编程性与小型化的发展途径,在微型光谱仪、材料分析等跨领域应用中展示了强大生命力。
尽管微纳光学与材料创新持续推动快照光谱芯片向更高空间、光谱与功能分辨率演进,但从制造工艺复杂度、材料一致性控制、光学性能的工艺-物理瓶颈等方面仍面临诸多挑战。例如,器件小型化通常会受限于衍射极限和材料损耗,二维材料的工艺稳定性与系统兼容性也需持续攻关。未来,微纳结构的设计优化、工艺迭代与新材料研发三者的深度耦合,将成为快照光谱成像芯片突破瓶颈、实现下一代创新应用的核心驱动力。
4.2 深度学习与算法辅助
快照光谱成像芯片在硬件架构和光学设计方面不断创新,然而,真正决定系统性能和应用广度的,正是算法对于光谱数据的深度理解与优化重建能力。传统重建方法面临压缩测量下的强病态(ill-posed)问题,在分辨率、噪声、实时处理等层面显出明显瓶颈。近年来,深度学习技术与优化算法的引入,不仅显著提升了光谱成像的重建质量,更为软硬件协同设计开辟了新的路径。
在重建算法领域,深度展开方法将经典优化算法与神经网络架构有机融合,针对快照光谱的特殊物理编码过程实现了定制化求解。例如,在衍射型快照光谱系统(DSSI)中,深度展开框架通过显式推导数据保真项,提高了迭代效率与收敛效果,同时采用网络初始化策略,显著增强了系统对病态问题的稳定性和重建质量,为未来基于物理原理展开的新算法奠定了基础。
深度神经网络,特别是Transformer结构在快照光谱成像中的应用也表现出前所未有的突破。利用空间-光谱互补特性,大规模预训练模型经自适应融合模块调整,可充分学习光谱分布和空间特征,有效提升对物体和材质的辨别能力,更适配多传感器、多模态融合,通过少量训练实现高性能跟踪和识别。此外,Mask-guided Spectral-wise Transformer 利用物理编码信息,引导模型在光谱维度聚焦高保真区域,显著减少计算与内存压力的同时提升重建质量。
针对硬件结构的特殊性,部分算法在重建过程中主动融入传感器特性及光学编码的先验知识。例如,HerosNet结合ISTA优化结构与硬件友好掩码自适应学习,实现了跨阶段特征融合与参数动态调整,有效对应工业应用场景的复杂性与高要求。同样,针对压缩测量系统如CASSI,优化算法在融合灰度先验与自适应训练集信息的同时,提出了混合先验策略,提升网络的泛化和重构性能。
实时性处理是快照光谱成像步入实际应用(例如手术导航、自动驾驶等)的关键难题。深度学习、无监督和自监督方法成为突破口,既规避了高质量训练样本的稀缺性,又显著缩短了重建时间。如自监督和对抗学习体系,无需高分辨率标签,即可驱动模型在实际场景下优化恢复图像空间细节和光谱准确性,提升实时重建与视觉化效果,。聚焦超分辨重建,张量优化与高阶正则方法通过挖掘空间-光谱三维结构内在联系,摆脱了传统二维/一维先验的限制,实现高保真的体积重建,。
值得关注的是,硬件算法耦合和工程化落地依然面临诸多挑战:一方面,极端压缩测量条件下,算法如何兼顾重建精度与硬件实时性,是算法优化的核心;另一方面,跨模态、小样本等问题在实际系统开发中制约了算法泛化和智能化能力。利用小数据驱动学习(如Convex/Deep小数据理论)和硬件敏感型掩码优化,为系统紧凑化、数据稀疏场景下的性能突破展现出巨大潜力,。
最新的算法创新还包括对空间梯度一致性、光谱相关性等自然场景正则项的引入,在无监督体系下增强了重建的物理合理性与速度表现。此外,神经场模型、张量压缩、特殊掩码设计及端到端可微分重建方法等正在成为解决高分辨率、宽带解耦和多场景适配的领先方向,,。
总体来看,深度学习与算法优化正逐步重塑快照光谱芯片的实际性能边界,其与硬件结构的协同更是推动系统整体进化的核心驱动力。未来发展可关注算法物理先验的嵌入、数据高效化与小样本模型、可解释性增强、端到端系统化设计等方向,以实现真正高效、智能、易用的光谱成像系统。
4.3 集成化芯片设计与系统优化
集成化芯片设计与系统优化是快照光谱成像芯片实现高分辨率、低功耗和高集成度的核心环节。伴随成像需求向高空间和高光谱分辨率发展,系统结构与工艺误差对成像性能的影响愈加突出。本节将系统性剖析主流集成化设计的进展,包括全CMOS方案、片上光学编码、分布式衍射光学元件(DOE)与液晶硅片调制等方向,并分析高分辨率与结构工艺容差、制造误差之间的复杂关系及其优化路径。
全CMOS集成方案将光学调制与探测功能融于单芯片内,代表了快照光谱成像系统的高度一体化趋势。近期有工作提出了基于纳米光子薄膜编码与大规模并行重建网络(MP-Net)相结合的全CMOS快照高光谱成像芯片,通过3×3 CMOS像素阵列与4×4纳米光子薄膜单元的紧密集成,实现了等同于CMOS原生分辨率的高空间分辨率成像,并开发了专门用于补偿制造误差(如薄膜沉积非均匀性和芯片错位)的算法,有效提升了结构容差和实际制造的可行性。这种方法极大降低了对高精度制造工艺的依赖性,同时实现了对批量生产和实时高保真成像的双重保障,拓展了芯片在动态或复杂场景下的应用潜力 。
片上集成光学编码技术是提升系统分辨率和紧凑度的另一关键思路。例如依托三维打印和二光子聚合的光纤阵列或光导阵列,实现了在极小芯片空间内高密度采样和灵活像元重排,大幅简化了光路系统结构并降低了制造和装配成本。通过定制化小芯直径结构和高精度加工工艺,相应阵列可用于直接对被成像物体高效采样,并且与传统光路耦合方法相比,提升了模块化与微型化水平 ,。
针对传统DOE分布式微纳结构的加工极限与设计误差导致的衍射效率损失,近期研究提出用液晶硅(LCoS)空间光调制器替代固定DOE阵列。这种动态分布式衍射光学方案不仅提升了在可见光全波段的最高衍射效率,也显著增强了设备对结构误差和制造容差的适应能力。LCoS可实现可调焦距和编码模式,在批量生产时可利用软件适配工艺偏差,从而减轻对高精度加工的依赖,方便原型系统的现场调试和实时深度计算优化 。
另一方面,片上集成薄膜滤光片、超表面(metasurface)以及衍射光网络等新型结构进一步推动了系统集成度,但也带来了显著的尺寸-效果权衡。例如,像素级集成的薄膜滤光片虽然提升了波段分辨能力,但滤光片微型化导致的衍射损失和反射次数降低会降低整体透过率,因此实际设计中需综合权衡像素尺寸与滤波带宽之间的取舍 。超表面和衍射光网络等新型片上微纳光学元件则兼具结构紧凑与功能高度可编程的优点,不仅能级联空间和光谱编码提升重构精度,还能降低对成像系统极端稳定性的要求,减少器件对输入偏振态等外部因素敏感性,推动高密度、宽波段、多功能快照成像芯片的发展 ,。
制造误差和系统容差始终是亚埃米级甚至纳米级分辨率芯片设计难以回避的核心问题。当芯片空间采样间距缩小至微米量级或更低时,制造公差与材料非均匀性直接影响编码结构功能与成像重构准确性。
优化典型路径包括:(1)设计阶段引入鲁棒性约束,实现“容差优化设计”;(2)开发结构容忍度高、校正能力强的算法,如神经网络重建与端到端学习优化,能够自动适应部分工艺误差;(3)采用可动态调节或重构结构(如LCoS、超表面电调机制),实现在芯片集成后的误差补偿与性能微调。这些方法有效提升了系统的工程可用性与量产一致性,为快照光谱成像芯片在高分辨率、低成本量产等方向提供了支持 ,。
整体而言,集成化芯片设计与系统优化正在推动快照光谱成像设备向更高分辨、更强适应性的方向演进,相关技术的集成深度、制造容忍度和可重构能力已成为下一阶段创新与应用突破的关键。
4.4 其他创新方案与跨界集成
随着快照光谱成像芯片技术持续进化,跨界创新与集成方案成为推动分辨率、系统功能性以及可扩展性提升的重要驱动力。近年来,研究者尝试引入自适应光学、片上集成多功能器件、弹性材料以及微腔等多元手段,以突破传统成像芯片的物理和工艺限制。以片上功能集成为例,通过新型制造工艺如两光子聚合自组装技术实现高空间密度的光纤阵列,有效提升了光谱采样通道密集度,显著优化了空间与光谱分辨率,同时简化了系统装配工序,降低了制造成本。类似地,采用三维打印的玻璃光导阵列,通过定制波导路径实现高效像素再分布,不但提高了系统总体成像性能,还为微型化与一体化设计开辟了新的可能。
微腔集成与金属透镜阵列的跨界组合已在部分芯片中实现,对提升狭窄带宽下的光谱获取能力,以及多维参数(如偏振分辨率)的同时探测具有明显优势。通过Fabry-Pérot微腔阵列结合金属透镜,可在单次曝光下获得多通道光谱极具分辨率的图像数据,进一步支持偏振多维生物样品分析和新材料表征,对微型化多维快照成像带来革命性突破。
弹性材料在芯片光谱采集方面展现出独特的灵活性和可扩展性。例如,通过塑料片的光弹性效应设计可重构的光谱滤波单元,不但简化了CMOS等常规芯片的集成工艺,还能根据实际需要动态调整光谱采样模式。这一策略消除了对高精尖微纳制造和特种材料的依赖,大幅提升了成本效益与适用范围,推动普及型光谱传感器的落地。
此外,将被动硅光子芯片中的随机衍射、级联非平衡马赫-曾德尔干涉结构以及自由空间的相互干涉复用,能够在单次图像采集中获取数千条空间采样通道。这种基于统计装置“speckle pattern”编码的创新,突破了传统带宽与分辨率的对立限制,实现了芯片级光谱仪超高带宽、超高分辨率和极致小型化的协同。
批判性分析来看,这些跨界创新方案普遍面临如下挑战:一是工艺稳定性与可靠性,如何在批量制造条件下保证器件性能的一致性;二是系统集成的复杂性,多功能器件协同工作对接口设计提出更高要求;三是成本与可扩展性,部分高端工艺尚未形成产业化规模,制约了广泛应用。上述新方案虽在局部性能上实现突破,但整体系统的鲁棒性、功耗管理和自动校准能力仍有待提升。
未来发展方向应进一步聚焦多物理场耦合、多功能一体化和适应性材料研究。同时,加强理论建模与数据驱动优化,提升系统自校准和动态重构能力。结合人工智能辅助设计与算法解算,有望实现更高维度、更广应用场景下的快照光谱芯片全新变革。
5. 亚埃米级分辨率快照光谱成像芯片的应用前景与挑战
随着快照光谱成像芯片技术不断进步并逐步实现亚埃米级分辨率,该类芯片正在成为生物医学、材料科学、智能感知等多领域技术革新的核心支撑。亚埃米级分辨率不仅显著提升了空间和光谱细节的捕获能力,也使其在动态过程监测、高通量检测与复杂环境感知等应用场景展现出独特价值。在实际应用中,例如医学影像利用快照光谱芯片实现了更高效的实时组织功能与形态分析,而生命科学和材料检测领域则依托于其高灵敏度和精准分辨能力,显著推动了细胞动力学追踪、分子标记定量、物质成分分级等前沿研究。与此同时,智能农业、环境监测和自动驾驶等行业也逐步引入高分辨率快照光谱成像,以满足实时性、智能化与数据多维压缩的实际需求。
然而,快速发展的同时,该领域在技术实现、制造成本和产业化推进等方面仍面临重大挑战。例如,微纳结构制造精度、光谱编码器工艺、算法硬件协同优化、以及系统集成容差,均成为制约芯片广泛落地应用的关键瓶颈。此外,如何平衡空间与光谱分辨率、提升重建算法的普适性与实时性,以及推动标准化和低成本高效量产,都是行业内亟需解决的核心问题。不同技术路线——如DOE、元表面、微结构光栅、集成光子芯片等——相互竞争与演化,也暴露出诸多工艺、算法和标准争议。
未来,亚埃米级分辨率快照光谱成像芯片的价值将随相关技术的迭代和系统集成创新而进一步释放,特别是在推动实时多光谱信息获取、微型化可穿戴设备、以及智能感知平台建设等方向具有广阔应用前景。同时,跨学科协同创新、低成本微纳制造、算法硬件一体化设计,以及标准体系完善,将是推动该领域持续突破的必由之路。
5.1 应用领域与影响
快照光谱成像芯片依托于其高空间、光谱和时间分辨率,以及便携集成的特性,正在深刻重塑多个科学和工业领域。医学影像是应用最为活跃的领域之一。相较于传统扫描型系统,快照光谱成像芯片可在手术、病理诊断等场景下实时获取组织的功能和形态信息。例如,在腹腔镜手术中,借助快照型多光谱相机可实时检测组织灌注状态,提高手术安全性与精准性,同时消解传统系统繁杂硬件和缓慢响应的问题 。此外,芯片级超光谱技术还实现了脑血流动力学的动态监测,能够精准解析氧合血红蛋白和脱氧血红蛋白的时空变化,为活体脑功能研究带来革命性进展 。
生命科学层面,亚埃米级分辨率的快照光谱芯片可用于细胞动态过程的精准追踪与分子生物标记。新兴的细胞内激光器作为高灵敏度生物传感器,依赖快照型超光谱成像对其窄线宽发射进行高时空分辨检测,可支持多通道高通量细胞监测与微环境分析,为单细胞研究和组织微结构分析提供新维度工具 。在材料科学及工业检测领域,芯片级快照超光谱成像可基于物质特异性光谱特征,进行纺织品分类、食品质量评估(如苹果表皮损伤检测)、材料分级鉴别,显著提升检测智能化和自动化水平 ,,。
农业与环境监测同样受益于高分辨率成像芯片。例如在智慧农业中,芯片可高效实现叶绿素和糖分的定量分析,支持作物长势监控、病虫害预警和资源精准管理,助力农业生产数字化转型 。在水质评价和环境健康安全监控等方面,芯片可通过快速识别水体光谱特征,实现污染物溯源与质量管控。
天文遥感作为传统高维成像技术的重要应用领域,芯片级光谱成像已实现遥远天体的表面化学成分和物理状态的实时捕捉。例如遥感月表或其它星体时,芯片的高光通量与宽波段成像能力为月球等天体检测带来了轻量化与实时化的新契机 ,。
除了上述领域,快照光谱成像芯片对自动驾驶等新兴交通系统具有显著附加价值。通过在复杂交通场景下识别不同物质的近红外光谱反射特性,实现对障碍物、道路标识等的自动分割和判别,大幅提升驾驶辅助系统的稳健性与可靠性,尤其在恶劣天气和微光条件下表现突出 。
| 应用领域 | 技术驱动特性 | 典型应用场景 |
|---|---|---|
| 医学影像 | 实时多光谱成像 | 组织功能分析、手术导航、脑血流监测 |
| 生命科学 | 高分辨率动态追踪 | 单细胞过程观测、生物标记分子定量 |
| 材料科学 | 高灵敏光谱检测 | 材料分级、食品质量评估、自动分割 |
| 智能农业 | 快速多参数定量 | 作物健康监控、资源优化管理 |
| 环境监测 | 高通量实时识别 | 水质评价、污染源溯源 |
| 天文遥感 | 宽波段高通量成像 | 月表/星体化学分析、表面状态检测 |
| 智能交通 | 复杂环境稳健分割 | 自动驾驶障碍物检测、道路标识识别 |
不同实现路线如基于3D打印玻璃导光阵列、集成光子芯片、微结构光栅或多芯光纤等,均推动了超高分辨率与轻型化芯片的发展,这不仅简化了系统结构,还为微型化光谱成像仪在便携医疗、野外勘察和资源受限平台上的应用铺平道路 ,。
进一步提升空间和光谱分辨率促使科学家在“无扫描”条件下捕捉极快速或极细致的本质过程,推动新型应用如高通量细胞动力学、高灵敏度天体观测、实时工业分级、复杂环境智能感知等涌现。总体来看,快照光谱成像芯片以其强大的数据维度压缩、智能重建和系统集成特性,正在推动从基础研究到实际产业的多领域技术变革。
5.2 技术、成本与产业化挑战
随着快照光谱成像芯片技术的不断进步,其在空间、光谱分辨率和一体化方向上取得了显著的突破,但技术、成本与产业化层面依然存在诸多挑战。
在技术实现方面,光学微结构的制造精度是影响芯片性能的关键因素。传统依赖光刻工艺的衍射光学元件(DOE),因受限于工艺水平,仍难以实现理想的高度和衍射效率,从而影响了编码成像和部分波段重构的准确性。以液晶硅空间光调制器(LCoS-SLM)替代DOE的方案,虽然提升了调制水平和全波段衍射效率,但这类动态调制器存在成本高昂与集成复杂等产业化壁垒,且其可动态切换的特性尚未大规模应用于标准工业流程 。
另一重要方向是超表面元件与微纳光子集成。例如,有研究提出高度集成的快照型元表面HDR光谱相机,兼顾高动态范围与高光谱分辨率,将多次曝光与CTIS成像结合,通过空间复用实现多投影测量。然而,元表面设计对芯片精度要求极高,加之深度重构模型对算法和硬件算力均有强依赖,这些都成为量产和广泛应用的障碍 。
算法适配层面,由于快照模式常用谱间马赛克传感器(多色阵列),成像过程本质上是空间和光谱的权衡。现有多数方案通过神经网络或稀疏模型进行去马赛克、超分辨、色彩映射,但算法的普适性和泛化能力有限,且算法复杂度导致端侧实时推断受到限制 ,,。更有甚者,由于马赛克模式本身会导致空间分辨率下降和色差,复杂场景下的重构易产生伪影或精度损失,对数据集和真实场景的拟合能力也亟需提升 。
在制造和成本方面,微纳制造工艺(如复杂膜层的沉积、超表面蚀刻)不仅技术门槛高、良率低,而且成本随分辨率提升呈指数增长。从产业化角度,传统光学方案的可靠性与可复制性高于新兴微纳路线。例如,依赖弹光效应的低成本光谱编码器及器件,与高性能CMOS集成,虽能规避部分微纳制造复杂性,并优化结构容差和制备匹配,但受限于塑料膜片等材料的性能瓶颈,未来在高精度、高通量领域的应用仍有局限 ,。
此外,干涉型分光方案(例如多孔径法布里-珀罗型)需要极其精细的响应校正与系统标定。虽然这些结构化分光路径具备理论上的高紧凑性和快照优异性,但参数配置复杂,需要专属的算法和稳健的工程校准,进一步增加了量产和现场部署难度 。
综上,目前快照光谱成像芯片产业化的主要挑战在于如何兼顾高分辨率、低成本、高集成度和可批量制造性。其中微纳光子制造、算法适配性、结构容差与系统校准等问题仍未得到充分解决,领域内对于集成技术路线、新型材料选择、以及算法硬件协同优化的观点尚未达成一致。未来突破的关键方向可能包括低成本高效微纳加工工艺的创新、鲁棒且高效的重构算法,以及结构与算法一体化设计理念的深度融合。
5.3 领域争议与未来展望
快照光谱成像芯片作为光谱成像技术领域的前沿方向,近年来在空间分辨率、光谱分辨率与实时成像能力方面取得了显著进展。然而,围绕其核心技术方案、标准化路径及产业化推进过程中,仍存在诸多值得关注的争议与挑战。首先,在分辨率提升与成像效率之间的权衡问题上,各类结构创新与重建算法不断涌现。例如,采用集成光学元件的快照方案能够简化成像系统,提升捕获速度,但通常会因像素级光谱滤波造成空间分辨率下降,且需要复杂的去马赛克及超分辨率重建算法,加重计算负担 ,。部分学者通过深度学习方法提升超分辨与色彩预测性能,但对于实际应用中的场景变化与光学误差,模型的泛化能力与鲁棒性仍有待验证。
其次,器件制造工艺及标准化进程也是争议焦点。以纳米光子薄膜与光衍射元件为核心的光谱编码器受制于微纳加工精度、工艺一致性及大规模量产的可行性,不同方案间在光效率、光谱均匀性与结构容差方面各有侧重,但缺乏统一的性能评价与标准测试流程,这极大影响了从实验样机到商业产品的转化效率 ,。
快照光谱成像芯片的算法与硬件耦合程度亦为学界和产业界讨论的重点。部分方案依赖于高度定制的物理编码结构与后端推理网络,导致系统复杂性较高且难以兼容不同应用需求。而如分布式衍射光学与动态调制技术,则在灵活性与调试效率上展现出突破性优势,但相关材料和器件的耐用性、稳定性与长期可靠性,还需深入评估 ,。
从产业化视角来看,快照光谱成像芯片尚处于初级批量落地阶段。尽管多种原型机在环境遥感、健康医疗、消费电子等应用场景实现了验证,但成本、功耗及系统兼容性仍为商业推广的关键瓶颈。同时,传感器架构、光学编码方案及重建算法之间缺乏统一标准,导致沟通协作与协同创新效率低下,制约了整个生态系统的成熟。
未来发展方向将聚焦于以下几个方面:一是持续探索更高效、低损耗的光谱编码器结构,结合可编程动态调制材料实现更灵活的场景适应能力;二是推动标准化体系和开放式测试平台建设,建立从器件、算法到系统级性能评价的通用规则;三是结合高性能重建算法与硬件协同优化,兼顾空间、光谱分辨率与实时性,在多样化应用场景下实现高质量数据获取;四是关注芯片设计的可扩展性和能耗控制,以适应未来物联网和移动计算需求。整体来看,快照光谱成像芯片的持续突破,需要跨学科联合、产业链协同共进,通过标准制定、工艺创新与生态搭建,加速技术的成熟与落地应用。
6. 结论与未来展望:亚埃米级分辨率的必然性与发展方向
快照光谱成像芯片的研究进展使得分辨率不断逼近亚埃米级,为该领域带来革命性变革。芯片级光谱成像系统在空间尺度上的极致微型化,已被实验验证可缩小至原子级厚度,同时保持或甚至提升光谱分辨能力,这种趋势不仅推动了技术本身的极限挑战,更为多领域应用提供了新的可能性。例如,采用单层MoS2应变调控的单片光谱仪,不仅实现了9nm级分辨率,还将体积缩减了50倍,为可植入医疗设备以及便携式光谱分析工具创造了条件 。同样,基于失序散射机制的硅基芯片光谱仪,将多重散射路径巧妙折叠于有限空间,通过设计微结构大幅提升光谱分辨率至0.75nm,并兼具超微型化与鲁棒性,这种技术为实验室芯片和集成光子学诊断提供了现实基础 。
当前的技术突破包括多维联合编码层的引入,实现了光谱、偏振等高维光学信息的同步采集,为材料科学、生命科学到智能感知领域带来了更丰富的数据基础 。而深度学习和神经网络等先进计算方法也已开始与新型光学结构深度融合,显著提升了端到端处理的效率与质量,有效减少了传统光谱重建中的时空瓶颈 ,比如小数据驱动的CODE神经网络和高色纯度Fabry-Perot滤色器结合的新体系,显示了超宽带宽与CMOS兼容性的未来发展方向 ,。
此外,亚埃米级空间分辨率不只是技术演进的必然结果,更是推动高通量量子光源、先进生物传感、脑科学成像等未来应用场景的核心驱动力。例如,超分辨快照光谱成像能在单次曝光下,精准定位并分辨单体量子点,从而实现大规模集成量子光子的高效设计与制造 。
在芯片架构层面,无论是通过高度集成的多光路设计、孔径衍射编码、元表面光学还是变形二维材料,多维微结构和智能算法的协同优化成为突破高分辨、微型化与多功能集成的关键方向 ,。值得注意的是,随着制程工艺与纳米结构工程的发展,极小尺寸芯片中仍可实现高采样通道密度与极窄带宽分辨率,使系统不仅适配可穿戴、移动、嵌入式场景,也可满足日益复杂的实时数据处理需求 。
展望未来,亚埃米级分辨率的实现不仅是学术上的重要突破,更是推动产业创新、跨界融合的关键节点。建议产业界加速布局纳米制程与多模态集成,推动高性能芯片批量化应用。学术界则需加强对超微结构物理机制与智能重构算法的基础研究,深化材料调控与器件布局,实现光谱、空间、功能三位一体的创新芯片平台。只有持续推进跨学科协同,才能充分释放亚埃米级分辨率快照光谱成像芯片在科学前沿和实际应用中的潜力,为未来感知、分析与认知系统奠定坚实基础。
结论
本文系统回顾了快照光谱成像芯片在空间与光谱分辨率极限、微纳结构创新、智能算法协同及集成化设计等方面的研究进展,强调了亚埃米级分辨率作为该领域技术突破和应用创新的必然趋势。综合分析表明,纳米材料、元表面、二维材料及多物理场的协同优化,推动了芯片集成度和分辨能力的持续提升。深度学习与高效重构算法则成为释放硬件潜能、实现高质量数据重建的关键支撑。综述整合了分散的技术路线和最新进展,澄清了空间/光谱分辨率权衡、制造工艺与算法适配等复杂问题,有助于指导后续研究和实际系统开发。然而,当前领域仍面临制造精度、系统容差、算法泛化能力、成本控制及标准化等多重挑战,部分创新方案在大规模量产和复杂场景落地上尚有局限。未来研究需重点关注低成本高效微纳制造、物理先验与智能算法深度融合、动态可重构结构、以及标准体系建设,推动快照光谱成像芯片在生物医学、智能感知、量子信息等多领域的深度应用。
| 未来突破方向 | 发展重点 | 预期影响 |
|---|---|---|
| 微纳制造低成本高效化 | 纳米制程、二维材料、批量生产 | 降低成本、提升集成度 |
| 物理先验与智能算法融合 | 深度学习、物理建模、端到端优化 | 提升重建质量与系统智能化水平 |
| 动态可重构微纳结构 | LCoS、电控超表面、自适应材料 | 增强系统适应性、简化现场调试 |
| 标准体系建设 | 统一算法/硬件评价、开放测试平台 | 加速产业化、促进协同创新 |
| 跨学科和产业链协同 | 材料-算法-系统一体化设计 | 推动生态成熟、扩展应用场景 |
展望未来,亚埃米级分辨率芯片有望成为高通量、智能化、实时化光学感知平台的核心基础,推动科学与产业的跨界融合与创新发展。
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